Déjà solidement implanté dans l’écosystème local des semi‑conducteurs, où il exploite 54 sites dédiés à cette industrie, le groupe franchit ainsi un nouveau cap avec sa première unité à grande échelle dans le pays consacrée à la production de matériaux avancés pour les procédés de dépôt et de gravure. 

Implantée au cœur de l’un des clusters de semiconducteurs les plus avancés au monde, cette usine produira des matériaux moléculaires de haute précision conçus pour les procédés nanométriques, en particulier les technologies de dépôt de couches atomiques (ALD – Atomic Layer Deposition). Ces matériaux sont essentiels pour accompagner la miniaturisation extrême des semi-conducteurs et soutenir la fabrication des puces de nouvelle génération, notamment celles destinées aux applications en intelligence artificielle et en calcul haute performance. 

Avec ce nouvel investissement, Air Liquide cherche à rapprocher ses capacités de production de ses clients industriels taïwanais et asiatiques, dans un contexte où la fiabilité et la performance des matériaux deviennent des enjeux stratégiques à mesure que les procédés approchent l’échelle atomique. Cette localisation permet également de renforcer la résilience des chaînes d’approvisionnement, de favoriser une meilleure collaboration avec les clients et d’accélérer les phases de développement, de montée en production et d’optimisation des rendements. 

Ce projet s’inscrit plus largement dans la stratégie du groupe visant à consolider sa position de leader sur le marché asiatique des gaz et matériaux pour l’électronique, en s’appuyant sur un ancrage industriel renforcé dans les zones les plus dynamiques de la chaîne de valeur des semi‑conducteurs. 

Source : LIU Wan-qing, Money DJ, 25/03/2026

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